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恒压控制系统-GZK-PID-103G[产品打印页面]

如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称: 恒压控制系统-GZK-PID-103G
产品型号:
产品展商: 其它品牌
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简单介绍

恒压控制系统-GZK-PID-103G


恒压控制系统-GZK-PID-103G  的详细介绍

    GZK-PID-103G是一款高真空恒压控制系统,内部含一高真空国产分子泵机组(机械泵VRD-24以及分子泵FF100/110),两种工作状态可进行切换:

    分子泵工作模式:可启动分子泵机组,从而实现体系的高真空状态;

    恒压工作模式:待分子泵停止工作后,通过PID控制机械真空泵的转速来控制抽气速率,进而获得对腔室内压力的精密测量和恒压控制,可与我公司的管式炉、镀膜仪等设备结合,实现PVD、CVD、PECVD以及HPCVD等工艺中压力恒定的**控制;

    本系统广泛应用于扩散、氧化、外延、CVD、等离子溅射以及镀膜工艺、光纤熔炼、混气配气系统及其它分析仪器中。

 

    免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅供参考。可能由于更新不及时和网站不可预知的BUG造成数据与实物的偏差。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

 

技术参数

 

产品特点

 

• 含一高真空分子泵机组:机械泵VRD-24(抽速6.6L/s)以及分子泵FF100/110(抽速110L/S)

 

• 两种工作状态可进行切换:分子泵工作模式以及恒压工作模式

 

• PLC触摸屏控制,触摸屏显示真空度及各项工作状态,一键式操作,方便快捷

 

• 恒压工作模式下:可通过变频器来PID调节真空泵的电机转速从而控制抽气速率,使抽气速率与进气量、漏气率相匹配,从而达到**的恒压控制

 

输入电源

 

• 208-240VAC, 单相, 50/60Hz

 

• 功率为1200W

 

真空测量单元

 

• 型号:PGC-554-LD

 

• 测量范围:3.8E-5 to 1125 Torr

 

• 精度:

 

3.7×10-4 … 7.5×10-4 torr (N2) % of reading ±50 

 

7.5×10-4 … 75 torr (N2) % of reading ±15 

 

75 … 713 torr(N2) % of reading ±5 

 

713 … 788 torr(N2) % of reading ±2.5

 

真空泵系统

 

 

• 机械泵型号:VRD-24

 

抽速:6.6L/S

 

工作环境温度:5-40℃

 

噪音:≦58 dB  

 

• 分子泵型号:FF100/110

 

抽速:110L/S

 

极限压强:≦4.5*10-7 torr(不带负载)

 

启动压强:<  0.75 torr

 

额定转速:42300 rpm

 

• 与腔室连接接口尺寸:KF40

  

 

压力恒定控制系统

 

• 压力恒定控制范围(进气气氛为氩气):

 

760mtorr(100Pa)-----225torr(30000Pa)(按照进气量为500sccm)

 

600mtorr(80Pa)-----200torr(26660Pa)(按照进气量为300sccm)

 

300mtorr(40Pa)-----185torr(24660Pa)(按照进气量为100sccm)

 

180mtorr(24Pa)-----100torr(13333Pa)(按照进气量为50sccm)

 

• 压力恒定控制精度:180mtorr-----2.5torr(±%10)

 

                   >2.5torr-----10torr(±%40)

 

                   >10 torr------200torr(±%5)

  

 

外型尺寸

• 600mm(L) x 745mm(W) x 700mm(H)

产品重量

• ~80kg

质保期

• 一年质保期,终身维护

 应用

 

• 此系统配套上相应的不锈钢密封法兰系统可以和本公司的真空管式炉、CVD、PECVD和HPCVD系统相连接,实现气氛的恒压控制。   

 

 • 此系统与本公司磁控溅射仪等镀膜设备匹配使用,可实现反应磁控溅射的气氛恒压控制。

        

 

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